光學干涉原理的膜厚測量技術的運用范圍

發布時間：2022-04-26　點擊量：1902

光學干涉原理的膜厚測量技術的運用范圍

F50自動映射膜厚測量系統

F50自動映射膜厚測量系統是結合了基于光學干涉原理的膜厚測量功能和自動高速平臺的系統。
以過去無法想象的速度測量任意點的膜厚和折射率。它支持從 2 英寸到 450 毫米的硅基板，并且可以規定任何測量點。
還有與大型玻璃基板兼容的可選產品。

半導體	抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/聚乙烯、拋光硅片、化合物半導體襯底、?T襯底等。
平板	單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR薄膜、各種光學薄膜等
薄膜太陽能電池	CdTe、CIGS、非晶硅等
	砷化鋁鎵（AlGaAs）、磷化鎵（GaP）等

產品陣容

模型	F50-UV	F50	F50-近紅外	F50-EXR	F50-UVX
測量波長范圍	190-1100nm	380-1050nm	950-1700nm	380-1700nm	190-1700nm
膜厚測量范圍	5nm-40μm	20nm-70μm	100nm-250μm	20nm-250μm	5nm-250μm
準確性*	± 0.2% 薄膜厚度		± 0.4% 薄膜厚度	± 0.2% 薄膜厚度
準確性*	1納米	2納米	3納米	2納米	1納米
測量光斑直徑	兼容標準1.5mm 0.5mm、0.2mm、0.1mm（可選）
光源	氘· 鹵素	鹵素			氘· 鹵素

薄膜厚度分析 FIL Mapper 軟件具有強大而*的薄膜厚度分析算法和讓您輕松規定測量點的功能。

可進行高速測量，最快可在 21 秒內完成 300 mm 晶圓上的 25 點測量。