日本nagno露點(diǎn)儀的類(lèi)型和原理介紹
電容式露點(diǎn)計(jì)原理式鋁基經(jīng)過(guò)電解，在其表面形成多孔氧化鋁層。許多氣孔在氧化鋁表面呈梳狀規(guī)則分布，金沉積在該表面上。將氧化鋁與這樣配置為兩極的鋁基和金薄膜夾在中間的阻抗元件是在檢測(cè)單元中使用的氧化膜傳感器。 
當(dāng)氧化膜傳感器暴露在測(cè)量氣氛中時(shí)，大量與大氣中的水蒸氣壓力成正比的水分子滲入氧化鋁的孔隙中。進(jìn)入孔隙的水分子吸附在孔隙壁上，進(jìn)入平衡狀態(tài)，改變孔隙壁的電阻值。結(jié)果，阻抗隨著兩極之間吸附水分子的數(shù)量而變化。換言之，水蒸氣壓力的變化被檢測(cè)為阻抗的變化。該阻抗變化由顯示器讀取，轉(zhuǎn)換為露點(diǎn)溫度并顯示出來(lái)。 -鏡面冷卻型露點(diǎn)計(jì)原理溫度傳感器（PT100Ω）嵌入在鍍銠銅的鏡面部分，可以測(cè)量鏡面溫度。Pelche 元件與鏡子背面緊密接觸，可調(diào)節(jié)鏡子溫度。鏡面上部有光源和受光元件，光源發(fā)出的光照射鏡面并安裝成反射光進(jìn)入受光部。 
測(cè)量氣體通過(guò)傳感器頭以改變鏡子的溫度。如果先降低鏡面溫度，當(dāng)鏡面溫度低于測(cè)量的氣體露點(diǎn)時(shí)，鏡面會(huì)出現(xiàn)結(jié)露。這種冷凝會(huì)改變從鏡子反射的光量。當(dāng)?shù)竭_(dá)受光部的光量減少時(shí)，鏡面溫度會(huì)升高。當(dāng)鏡面溫度升至測(cè)量氣體露點(diǎn)以上時(shí)，結(jié)露消失，到達(dá)受光部的光量返回。通過(guò)連續(xù)進(jìn)行該操作，最終會(huì)收斂到結(jié)露消失的平衡狀態(tài)的溫度。換言之，這是被測(cè)氣體的露點(diǎn)溫度。 - 五氧化二磷型露點(diǎn)計(jì)原理兩根鉑絲纏繞在一定長(zhǎng)度的石英管表面。五氧化二磷以薄膜形式涂敷以覆蓋這兩條線的表面，這成為檢測(cè)部分。檢測(cè)器安裝在氣流外殼中，以便一定量的氣體可以流動(dòng)。 
將兩根鉑絲用作電極，并對(duì)其施加恒定電壓。當(dāng)含有水的氣體通過(guò)檢測(cè)器時(shí)，氣體中的水被五氧化二磷劇烈吸附，將氣體中所含的水全部電解。由于根據(jù)法拉第定律，電解電流與含水量之間的關(guān)系是成正比的，因此通過(guò)調(diào)節(jié)通過(guò)檢測(cè)單元的氣體流量，可以將含水量作為電解電流來(lái)掌握。例如，100 cc / m 對(duì)應(yīng)于每 1 ppm 水 13.14 μA 的電流。
每種露點(diǎn)儀類(lèi)型的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格列表| | 電容式 | 鏡面冷卻型 | 五氧化二磷法 |
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| 測(cè)量范圍 | -100 至 + 20°C DP 標(biāo)準(zhǔn)
測(cè)量范圍可在標(biāo)準(zhǔn)范圍內(nèi)改變 | -35℃DP～+側(cè)環(huán)境溫度
-55℃DPMAX（CL-60·20℃下） | 0.01-1000ppm
-110--20℃ |
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| 其他 | + 側(cè)面特殊范圍是可能的 | 高露點(diǎn)可通過(guò)隔熱測(cè)量 |
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| 準(zhǔn)確性 | ±2℃DP | ±0.5℃DP以下 | 讀數(shù) ± 5% 或 0.4ppm |
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| 使用流量 | 1-5L/分鐘 | 0.1-1L/分鐘 | 0.1L/分鐘 |
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| 測(cè)量壓力 | 大氣壓～1.0Mpa | 氣壓 | 0.25-7.0 巴 |
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| 轟天猛將 | 基本沒(méi)有 | 基本沒(méi)有 | 傳感器部件需要更換
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① 電容式露點(diǎn)計(jì)
在線型：ND-TA 在線型? ND-TA 發(fā)射器
便攜式型：ND-SD 型? ND-SDRF 型
② 鏡面冷卻型露點(diǎn)計(jì)
在線型：MIRRORCL-P 型? MIRRORCL -S型
便攜型：ND-CH型（目測(cè)型）、CL-60型（正在調(diào)整中）
③氧化鋯型氧氣計(jì)
ND-OX-03型（0.1～3% O 2，無(wú)內(nèi)置泵）
④Galvani型氧總
在線型：SYSTECH 900型/600型（ppm規(guī)格）
便攜型：EC92D
