STIL 模塊化光學筆“DUO”原理分析

發布時間：2023-04-03　點擊量：1200

STIL 模塊化光學筆“DUO"原理分析

實現更精確的表面形狀測量。更寬的測量范圍除了先前型號中使用的
測量方法（“共聚焦色度模式"）外，還安裝了新的“干涉測量模式"。現在可以支持更精確的表面輪廓測量。兩種模式都可以根據所需的測量精度使用，從而擴大了應用范圍。

雙模控制器

控制器可用于共聚焦色度模式和干涉測量模式。與以前的型號一樣，系統配置易于使用且簡單，只需根據所需的測量精度更換筆式模塊即可。

光源發出的光會反射在測量對象、參考板和參考平面上。此時，兩個反射光之間存在光程差。如圖所示，如果將參考板插入待測物體的前面并盡可能靠近，使光程差進入干涉距離，則兩個反射光之間會發生干涉。由于這種干涉的光譜強度是由波長調制的，因此可以通過軸向顏色校正光學筆進行測量和分析，以實現更精確的厚度測量。