均質機 Hiscotron 用例分析
均質機作為使用國家產業技術綜合研究所甲烷水合物研究中心的研究示例，我們想介紹一個研究報告“使用微氣泡生成甲烷水合物"。
均質機改性產生微氣泡
 圖1 微氣泡發生器：透明容器內的部件均質機攪拌器部件修改 |
攪拌混合兩種密度不同的物質乳化生成事物等時。均質機由于它在從食品加工到物理和化學的廣泛領域商業化并且易于獲得，因此在本研究中它不使用高壓循環泵。均質機我們利用 . 此外，還認為微氣泡是在壓力條件下產生的MH，以及可以儲存在壓力容器中并具有獨立驅動電機和攪拌器的混合器類型均質機由Microtek制造均質機圖1所示的細氣泡發生器是原型。 改造均質機為了研究攪拌器產生的氣泡效應，THF（四氫呋喃）水溶液A（溫度278 K，濃度小于0.1重量%）和水溶液B（溫度274.1 K，濃度1.5重量%）在大氣壓下產生。
微氣泡生成
 圖3 修改均質機通過攪拌器 產生細小氣泡 上圖：氣泡前 下圖：細小氣泡的產生 |
重塑均質機圖3示出了空氣自然吸入攪拌器的氣泡產生情況。 與氣泡之前（上圖）相比，細小氣泡在生成過程中以白色條狀從攪拌器的狹縫部分噴射到周圍區域（下圖）。 使用THF水溶液和氙氣的地層試驗結果如圖4.1和4.2所示，關于該混合器產生的氣泡的粒度分布。 THF水溶液A通過向蒸餾水中添加微量THF（濃度小于0.1重量%，獲得 278K），水合物不僅僅通過氣泡的產生產生，并且根據圖4.1所示的粒度分布結果，以10 um~14 um左右和38 um~50 um左右的粒徑為主，并產生微氣泡。 在THF水溶液B（濃度1.5重量%，274.1K）中，通過氙氣和THF混合得到的水合物生成，并且在圖4.2的粒度分布中，如圖4.1所示，在10um~14um附近有一個峰，并且30um~38um左右的粒徑也很突出。 由此可知，水溶液A的微氣泡和水溶液B的水合物的粒徑分布中優秀粒徑的分布趨勢是相同的，并推測水合物是從微氣泡狀態產生的。 在Takahashi等人的實驗結果中觀察到類似的趨勢，并通過比較使用循環泵和特殊噴嘴生成微氣泡和水合物的結果，修改了細小水合物的生成均質機攪拌器的有效性也得到了證實。
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| 圖4.1 氙微氣泡 （THF水溶液A：0.1重量%，278K）： 上圖：氣泡生成 底部 ：粒徑分布 | 圖4.2 Xe/THF水合物 （THF水溶液B：1.5wt%，274.1K）： 頂部：水合物溶液 底部：粒度分布 |
Hiscotron誕生于我們的微細加工技術，內外葉片之間的間隙精度非常高，可以實現其他公司產品無法實現的均勻細磨和破碎。
通用均質機“Hiscotron"的設計理念強調前端加工，與專注于動力的海外均質機不同，是我公司暢銷的產品，銷量超過6，000臺，從大批量生產到各種定制產品。
Hiscotron NS-52， NS-52K
Hiscotron NS-57， NS-57S
Hiscotron NS-310E3
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