agc濺射靶材的特點及運用示例分析
汽車和住宅用表面處理玻璃的低輻射涂層
顯示膜和玻璃減反射涂層
觸摸屏等光學調整膜（折射率匹配膜）
信息電子玻璃用光學多層膜（CD、DVD等的鏡子）
| 材料 | 產品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 薄膜（氧化膜用） | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圓柱 | 直流濺射 | 特征 | 耐堿性 | 耐酸性 | 耐刮擦 | 其他的 | ||
| 硅基 | SC | ○ | ○ | 高速成膜（>結晶Si）、 高強度、高導熱率 | ○ | ○ | ○ | n=1.46 無定形 | |
| 熱噴涂硅 | ○ | ○ | ○ | 穩定放電 | ○ | ○ | ○ | n=1.46 無定形 | |
| 鈮基 | N.B.O. | ○ | ○ 熱噴涂 | ○ | 高密度、 高速成膜（＞Nb） | ○ | ○ | ○ | n= 2.3 無定形 |
| 鈦基 | TXO | ○ | ○ 熱噴涂 | ○ | 高速成膜（>Ti） | ○ | ○ | ○ | n=2.45 無定形 |
此處列出的質量數據僅供參考，并非保證值。關于下單時的質量保證，我們將另行協商決定。請注意，列出的質量數據如有更改，恕不另行通知。
由于其高強度、高導熱性、均勻的結構靶材，實現了長期穩定放電。
與使用結晶Si成膜的情況相比，成膜速度提高了20%。
通過氧化反應濺射獲得非晶SiO 2膜。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
成膜速度比金屬鈮成膜時快3倍以上。
通過氧化反應濺射獲得非晶Nb 2 O 5膜。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
成膜速度比金屬Ti快7倍以上。
通過氧化反應濺射獲得非晶TiO 2膜。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
汽車、住宅用表面處理玻璃（有色玻璃、熱反射玻璃等）保護膜
顯示薄膜（觸摸屏等）的防反射涂層
適用于條碼閱讀器和復印機頂部玻璃的防刮保護膜
適用于所有需要耐堿、耐刮傷的薄膜的保護膜。
| 材料 | 產品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 薄膜（氧化膜用） | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圓柱 | 直流濺射 | 特征 | 耐堿性 | 耐酸性 | 耐刮擦 | 其他的 | ||
| 硅基 | SX | ○ | ○ | 高密度 、低飛弧特性 | ◎ | ◎ | ◎ | n= 1.7 無定形 | |
| 英石 | ○ | △ 開發中 | ○ | 高密度、 高速成膜（>SX） | ○ | ◎ | ◎ | n=1.7～ 2.0非晶態 | |
此處列出的質量數據僅供參考，并非保證值。關于下單時的質量保證，我們將另行協商決定。請注意，列出的質量數據如有更改，恕不另行通知。
通過氧化反應濺射獲得非晶膜，該非晶膜平坦且具有低摩擦特性。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜具有優異的耐刮擦性和耐化學性。
成膜速度比SX更快。
通過氧化反應濺射獲得非晶膜，該非晶膜平坦且具有低摩擦特性。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜是無色且高度透明的。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜具有優異的耐刮擦性和耐化學性。
通過氧化反應濺射獲得的薄膜具有液滴特性。
所得薄膜的折射率可在 1.7 至 2.0 之間變化，具體取決于目標組合物。
建材用Low-E（低輻射）薄膜用介電薄膜
防反射膜等光學膜用中折射率膜
| 材質系統 | 產品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 膜質量 | ||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圓柱 | DC成膜 | 特征 | |||
| 鋅基 | 深圳 | ○ | ○ | ○ | 合金靶材 Ar膜沉積 | n=2.0 無定形 |
| AZ | ○ | △ 開發中 | ○ | 合金靶材 Ar膜沉積 | n=2.0 無定形 | |
此處列出的質量數據僅供參考，并非保證值。關于下單時的質量保證，我們將另行協商決定。請注意，列出的質量數據如有更改，恕不另行通知。
使用我們的制造方法，圓柱形 SZ 靶材與背襯管實現了高粘合強度。因此，與傳統的熱噴涂靶相比，可以使用高功率濺射進行高速成膜。
可制造總長3m以上的長圓柱形靶材。
環境及能源玻璃（太陽能電池等）用透明電極
顯示玻璃用透明電極
汽車和住宅玻璃用透明導電膜（熱反射玻璃、電動汽車表面加熱元件等）
纖維、薄膜等抗靜電涂膜
| 材質系統 | 產品名稱 | 目標形狀 | 目標 | 膜質量 | ||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 平板 | 圓柱 | DC成膜 | 特征 | 電導率 | 耐化學性 | 其他特性 | ||
| 鋅基 | 廣州市 | ○ | ○ | 高密度燒結體 Ar成膜 | ○ | × | n=1.9 低溫結晶膜 | |
| 偶氮 | ○ | △ 開發中 | ○ | 高密度燒結體 Ar成膜 | ○ | × | n=1.9 低溫結晶膜 | |
此處列出的質量數據僅供參考，并非保證值。關于下單時的質量保證，我們將另行協商決定。請注意，列出的質量數據如有更改，恕不另行通知。
相對密度90%以上的高密度ZnO靶材。
與ITO相比，不易產生結節，可實現穩定的放電。
可在純氬氣氣氛下成膜。
即使在室溫下也可以形成結晶膜。
