SEM坂本數字水平儀SELN-001B作為行業內的測量與校準利器，正以其性能和無比優勢，為半導體制造和機床檢測企業帶來未有的革新。
光刻機作為半導體制造的核心設備，對工作臺和光路系統的水平精度要求近乎苛刻。SELN-001B憑借其高達±0.001deg的角度精度，能精確校準光刻機工作臺，確保晶圓與光刻鏡頭的距離分毫不差，從而保障光刻圖案精度。
在刻蝕工藝中，反應腔室與晶圓承載臺的水平度直接關乎刻蝕效果。SELN-001B可快速探測反應腔室的傾斜角度，助力技術人員迅速調整至理想水平，實現刻蝕氣體均勻分布，顯著提高刻蝕均勻性和精度。
對于鍍膜設備，真空腔室與蒸發源等部件的水平狀態決定了鍍膜質量。SELN-001B輕松應對真空腔室安裝調平，大幅縮短安裝時間，同時保障腔室水平度，使鍍膜均勻性更上一層樓。
機床導軌是機床精度、機床剛性及機床耐久性的重要指標之一。SELN-001B在機床裝配和維護過程中發揮著關鍵作用：
機床組裝前，對組成部件進行檢測，主要包括機床導軌的平行度、直線度、垂直度以及工作臺的平面度等。 一個軸向運動包含七項精度：線性位移、垂直面的直線度、水平面的直線度、滾動角、俯仰角、偏擺角和對其他軸的垂直度。SELN-001B能夠精準測量這些參數，為總裝工作提供準確數據依據，幫助工程師進行誤差修正，對導軌進行反復測量、鏟刮、研磨或其他機加工。
SEM坂本數字水平儀SELN-001B是根據半導體制造設備水平調整要求而設計的工業水準儀，自1999年開始生產并持續至今，在行業中以其高性能獲得了高度評價。
超高精度測量：X、Y軸的角度精度高達±0.001deg（相當于17.5μm/m），滿足最嚴苛的精密制造環境要求。
狹窄空間適應能力：上下間隔狹窄部位的水平觀測也能輕松完成，適應半導體設備內部復雜緊湊的結構。
數字化測量判斷：通過瞬時的數字測量判斷，可以統一作業者的標準，減少人為誤差。
雙軸同時調整：通過雙軸同時調整功能，顯著縮短了調整作業工時，提高工作效率。
智能化操作體驗：設置合格角度范圍，即使是初學者，水平調整作業也很輕松簡單。
| 參數類型 | 技術規格 |
|---|---|
| 傳感器尺寸 | Φ50 x 19毫米 |
| 傳感器重量 | 70克（含SVS底座） |
| 機身尺寸 | 約96 x 35 x 145毫米 |
| 線性角度 | X方向/±0.3deg，Y方向/±0.3deg |
| 顯示范圍 | 0.0001deg |
| 測量分辨率 | 0.0002deg |
| 電源 | 專用AC適配器DC6V或4節AA電池 |
| 機身重量 | 280克 |
在某半導體制造企業，引進新刻蝕機時，SELN-001B大顯身手。快速校準反應腔室水平，使產品良品率從85%飆升至92%。調整晶圓承載臺水平后，刻蝕不均勻問題得到有效解決，生產成本大幅降低。
另一家半導體工廠在鍍膜設備維護與升級中，借助SELN-001B，將真空腔室安裝時間從兩天縮短至一天，鍍膜均勻性顯著改善。蒸發源升級改造后，利用該設備精確調整水平角度，鍍膜均勻性偏差從±10%降至±5%以內。
專注先進制程芯片制造的企業，依靠SELN-001B定期檢測光刻機工作臺與光路系統，確保光刻圖案套刻精度達到納米級，為生產先進制程芯片提供堅實保障。
SEM坂本數字水平儀SELN-001B集精度、便捷性與可靠性于一身，是精密制造領域不可少的測量工具：
高精度保證：采用MEMS技術的超高性能傳感器，確保測量結果準確可靠，為精密制造提供數據保障。
操作簡便：可以一邊看著顯示器屏幕一邊調整水平儀，就像看著氣泡水平儀一樣直觀，大幅降低操作門檻。
高效節省：通過雙軸同時調整功能，減少了調整工作所需的工時，提高了設備安裝和維護效率，降低生產成本。
廣泛應用：不僅適用于半導體制造設備，也廣泛應用于機床和汽車相關行業，具有廣泛的行業適應性。
技術傳承：坂本電機擁有多年的精密設備制造經驗，超精密加工技術是其技術的基礎，保證了產品的品質。
SEM坂本數字水平儀SELN-001B以精準的測量、創新的設計和實際的應用效果，成為半導體設備制造和機床精度檢測企業提升產品質量、提高生產效率、降低成本的選擇。
